真空離子電鍍法是目前光學(xué)濾光片行業(yè)使用比較多的濾光片鍍膜工藝工藝，物理氣相沉積術(shù)（PVD）屬于光學(xué)鍍膜最重要的工藝范疇。首先在真空鍍膜機(jī)中利用離子轟擊清洗濾光片待鍍膜基板表面，接著啟動(dòng)蒸發(fā)源部分氣體在等離子體轟擊中離子化，并被預(yù)熱濾光片基板表面的負(fù)壓加速，因此，在層基板和部分新形成的金屬層連續(xù)被燒蝕的同時(shí)，汽化金屬層便生長在濾光片基板上。電子束蒸發(fā)技術(shù)相結(jié)合，可以得到較高的沉積率。入射電子束對濾光片膜層結(jié)構(gòu)有很大影響，濾光片膜層性質(zhì)取決于眾多復(fù)雜參數(shù)，因此通過有目的的工藝控制有可能直接影響濾光片膜層的密度、硬度和耐腐蝕性。物理氣相沉積術(shù)（PVD）屬于光學(xué)鍍膜最重要的工藝范疇。兩方面的優(yōu)勢特別明顯：可鍍基板的多樣性以及實(shí)用鍍膜材料的廣泛性。

采用真空鍍膜離子（PVD）鍍膜的濾光片產(chǎn)品，膜層牢固性好，硬度高耐摩擦，耐腐蝕可以在高溫高濕的環(huán)境中長期使用并保持穩(wěn)定的濾光片性能，目前納宏光電采用進(jìn)口的真空鍍膜離子鍍膜機(jī)可以為您提供多種類可以定制化生產(chǎn)的濾光片解決方案，歡迎來電垂詢。

光學(xué)濾光片工藝加工系列：

怎么提高濾光片膜層強(qiáng)度？

我們該怎么選擇濾光片廠家呢？

濾光片膜層填充密度提高產(chǎn)品質(zhì)量？

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光學(xué)濾光片質(zhì)量和加工制造工藝的關(guān)系

工藝水平對濾光片的質(zhì)量的影響有那些？

真空鍍膜離子（PVD）鍍膜濾光片有什么優(yōu)點(diǎn)？

為什么鍍膜的時(shí)候有離子源的濾光片質(zhì)量比較好？

鍍膜濾光片基片清潔的不干凈會(huì)對濾光片有什么影響？

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